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反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE)，全稱(chēng)為ReactiveIonEtching，是一種在半導(dǎo)體制造中廣泛使用的干法刻蝕技術(shù)。這項(xiàng)技術(shù)主要通過(guò)物理性和化學(xué)性的反應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)材料的準(zhǔn)確刻蝕，以形成微細(xì)的電子結(jié)構(gòu)。能夠?qū)崿F(xiàn)較高的刻蝕精度，適用于微米甚至納米級(jí)別的圖案制作；該技術(shù)提供了良好的刻蝕方向...

“中國(guó)材料大會(huì)”是中國(guó)材料研究學(xué)會(huì)的學(xué)術(shù)年會(huì)，是重要的系列品牌會(huì)議之一，是中國(guó)新材料界學(xué)術(shù)水平最高、涉及領(lǐng)域廣、前沿動(dòng)態(tài)最新的超萬(wàn)人學(xué)術(shù)大會(huì)，是面向國(guó)家重大需求、推動(dòng)新材料前沿重大突破的高水平品牌大會(huì)。為推動(dòng)經(jīng)濟(jì)社會(huì)高質(zhì)量發(fā)展，加快建設(shè)科技強(qiáng)國(guó)，實(shí)現(xiàn)高水平科技自立自強(qiáng)，于2024...

等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)(自由基)；離子化的原子、分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但...

等離子表面處理儀是一種利用放電形成的等離子體對(duì)材料表面進(jìn)行處理的設(shè)備。等離子體是一種由電子、離子、原子和分子等粒子組成的電中性物質(zhì)，具有高度活性和能量。通過(guò)控制等離子體的產(chǎn)生和處理?xiàng)l件，可以對(duì)材料表面進(jìn)行微觀級(jí)別的處理，實(shí)現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等多種目的。等離子表面處理儀的工作...

隨著科技的不斷進(jìn)步，清潔技術(shù)也在不斷發(fā)展。紫外臭氧清洗機(jī)作為一種環(huán)保的清潔設(shè)備，正逐漸在各個(gè)領(lǐng)域展現(xiàn)出其優(yōu)勢(shì)。主要基于紫外光與臭氧的協(xié)同作用。當(dāng)紫外光照射到臭氧分子時(shí)，會(huì)激發(fā)臭氧分子產(chǎn)生強(qiáng)烈的氧化能力。這種氧化能力能夠迅速分解物體表面的有機(jī)物、油脂、微生物等污染物，從而達(dá)到清潔的...

在科研、生產(chǎn)及實(shí)驗(yàn)領(lǐng)域，勻膠機(jī)作為一種常見(jiàn)的設(shè)備，其正確、安全的使用對(duì)于保證實(shí)驗(yàn)結(jié)果、提升工作效率至關(guān)重要。一、設(shè)備準(zhǔn)備與檢查在使用勻膠機(jī)之前，操作人員需進(jìn)行充分的設(shè)備準(zhǔn)備與檢查。確保安裝在平穩(wěn)的工作臺(tái)或地面上，并牢固固定，以防止在工作過(guò)程中發(fā)生滑動(dòng)或傾斜。其次，檢查電源線和連接...

電鏡等離子清洗機(jī)的頻率有40KHZ，13.56MHz，2.45GHz這幾種。采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。外接一臺(tái)真空泵，工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其...

等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。等離子清洗機(jī)外接一臺(tái)真空泵，工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。除了具有超清洗功能外，在特定條件...